超純水設備
超純水設備系統(tǒng)在半導體晶片制造過程中重起到至關重要的作用。在一個生產(chǎn)周期內(nèi)，一個晶片與超純水的接觸超過35次，在一個環(huán)節(jié)發(fā)生供水中斷或者水質(zhì)不合格都會影響晶片的質(zhì)量，甚至導致產(chǎn)品的報廢。穩(wěn)定可靠的超純水設備系統(tǒng)是**半導體晶片可持續(xù)生產(chǎn)的關鍵。
一、半導體晶片超純水設備系統(tǒng)簡介
本方案以半導體晶片生產(chǎn)用超純水設備系統(tǒng)為案例，詳細講解205T/H的超大型超純水設備系統(tǒng)設計特點、工藝流程、超純水供水網(wǎng)管設計等。
對于原水中的雜質(zhì)，可以選用的去除方式多種多樣，每一種凈化設備基于不同的凈化原理，對雜質(zhì)的去除效率各不相同，甚至某些設備在去除特定雜質(zhì)的同時會引起其他雜質(zhì)數(shù)值的上升。超純水設備系統(tǒng)設計的過程就是在滿足水質(zhì)要求的前提下尋找一個投資與操作優(yōu)化的凈化設備組合方案的過程。不同凈化設備對雜質(zhì)的去除效率。對超純水水質(zhì)的指標要求：
二、半導體晶片超純水設備系統(tǒng)設計特點
典型的超純水設備系統(tǒng)流程可分為部分：預處理、初級制水、精制水。在水資源日益匱乏的今日，超純水的回收再利用已經(jīng)成為超純水設備系統(tǒng)設計必不可缺的一部分。一般而言，經(jīng)工藝機臺使用的超純水除了PH值，電導率，TOC等指標較差外，大部分指標都市政供水，只要有針對性地設計一些凈化設備，完全可以將超過70％的超純水供水回收再利用，達到節(jié)水環(huán)保的目的。當然，回收率越高，其設備投資及操作運行成本也越高。本系統(tǒng)的流程設計充分考慮到工程水質(zhì)要求高，水量超過250噸小時的特點，各部分的設計兼顧經(jīng)濟性和可操作性，巧妙地將超純水回收利用系統(tǒng)融合于制備系統(tǒng)。
三、半導體晶片超純水設備系統(tǒng)工藝流程
自來水—加藥—多介質(zhì)過濾器—常壓脫氣塔—換熱器—10μm過濾器—一級反滲透 —預處理水箱—活性炭過濾器—離子交換器—去離子水箱—紫外線燈—1μm過濾器—二級反滲透—中間水箱—去有機物紫外線—混床—0.45μm過濾器—膜脫氣裝置—純水設備—冷卻箱—去有機物紫外線—拋光床—超濾系統(tǒng)—輸送管網(wǎng)—用水點



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